【企業戦略】Micronの米巨大半導体工場、PFAS・排水許可を巡り訴訟 ― 半導体投資に浮上する「環境インフラ」の制約

米Micron Technologyがニューヨーク州Clayで進める大規模半導体製造拠点を巡り、環境団体などがニューヨーク州の環境許認可プロセスを争う訴訟を提起しました。争点となっているのは工場建設・操業に必要な大気排出や排水に関する許可と、その前提となる環境影響評価です。原告側は、半導体製造で使用されるPFASを含む可能性のある工場排水や温室効果ガス排出について十分な環境審査が行われないまま許可が進められたと主張しています。 Micronのニューヨーク計画は米国内の先端メモリー半導体製造能力を大幅に拡大する大型投資であり、CHIPS政策による国内半導体生産強化を象徴する主要プロジェクトの一つです。大規模半導体工場の建設では、製造装置や材料の確保に加え、超純水供給、工業用水、PFASを含む化学物質管理、工場排水処理、大気排出管理、電力供給、廃棄物処理などの環境インフラを同時に整備する必要があります。 環境許認可の遅延や訴訟リスクは工場建設スケジュールや追加設備投資に直接影響を及ぼします。これは半導体メーカーだけでなく、製造装置、化学材料、水処理、排水処理、分析・モニタリングなどサプライチェーン全体を支える企業にとっても新たな市場機会とリスクを生み出します。